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| 英文名称： |
Test method for thickness and total thickness variation of silicon wafers for solar cell |
 中标分类： |
冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法 |
| ICS分类： |
冶金>>77.040金属材料试验 |
| 发布部门： |
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2014-07-24 |
| 实施日期： |
2015-02-01
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| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)及材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)及材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2) |
| 起草单位： |
东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司、有研半导体材料股份有限公司、乐山新天源太阳能科技有限公司、青洋电子材料有限公司 |
| 起草人： |
何紫军、冯地直、程宇、黎阳、陈琳、荆旭华、刘卓 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |