|
英文名称: |
Test method for crystalline quality of semiconductive single crystal—X-ray diffraction method |
中标分类: |
冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法 |
ICS分类: |
冶金>>77.040金属材料试验 |
发布部门: |
国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 |
发布日期: |
2023-08-06 |
实施日期: |
2024-03-01
|
提出单位: |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
归口单位: |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
起草单位: |
中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、 北京通美晶体技术股份有限公司、山东有研半导体材料有限公司、弘元新材料(包头)有限公司、哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司等 |
起草人: |
何烜坤、刘立娜、李素青、庞越、马春喜、许蓉、任殿胜、王元立、朱晓彤、李向宇、杨阳、潘金平、王书明、赵松彬、林泉、李国平、张新峰、赵丽丽、夏秋良 |
页数: |
12页 |
出版社: |
中国标准出版社 |