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| 英文名称： |
General specification for epitaxial wafers and substrates based on gallium nitride |
 中标分类： |
冶金>>半金属与半导体材料>>H83化合物半导体材料 |
| ICS分类： |
电气工程>>29.045半导体材料 |
| 发布部门： |
国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2018-12-28 |
| 实施日期： |
2019-07-09
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| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 起草单位： |
东莞市中镓半导体科技有限公司、合肥彩虹蓝光科技有限公司、苏州纳维科技有限公司、南京大学电子科学与工程学院、中国电子技术标准化研究院 |
| 起草人： |
丁晓民、刘南柳、潘尧波、徐科、修向前、孙永健、王香、张国义 |
| 页数： |
16页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |