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| 英文名称： |
Test method for crystal quality of Ⅲ-nitride epitaxial layers |
 中标分类： |
冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法 |
| ICS分类： |
冶金>>金属材料试验>>77.040.20金属材料无损检测 |
| 发布部门： |
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2014-12-31 |
| 实施日期： |
2015-09-01
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| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2) |
| 起草单位： |
中国科学院半导体研究所 |
| 起草人： |
孙宝娟、赵丽霞、王军喜、曾一平、李晋闽 |
| 页数： |
12页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
2015-09-01 |