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半导体器件 内部金属层间的时间相关介电击穿(TDDB)试验

国家标准
标准编号:GB/T 45718-2025 标准状态:现行
标准价格:44.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本文件描述了半导体器件内部金属层间的时间相关介电击穿(TDDB)的试验方法、测试结构和寿命时间估算方法。
英文名称:  Semiconductor devices—Time-dependent dielectric breakdown(TDDB) test for inter-metal layers
什么是中标分类? 中标分类:  电子元器件与信息技术>>半导体分立器件>>L40半导体分立器件综合
什么是ICS分类?  ICS分类:  电子学>>半导体器件>>31.080.01半导体器件综合
发布部门:  国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
发布日期:  2025-05-30
实施日期:  2025-09-01
提出单位:  中华人民共和国工业和信息化部
什么是归口单位? 归口单位:  全国半导体器件标准化技术委员会(SAC/TC 78)
起草单位:  工业和信息化部电子第五研究所、吉林华微电子股份有限公司、广东科信电子有限公司、中国电子科技集团公司第二十四研究所、广东汇芯半导体有限公司、上海交通大学、青岛芯瑞智能控制有限公司、电子科技大学
起草人:  高汭、陈义强、王铁羊、柯佳键、冯宇翔、雷志锋、方文啸、杨晓锋、俞鹏飞、来萍、常江、罗俊、纪志罡、李治平、宫玉彬
页数:  20页
出版社:  中国标准出版社
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