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| 英文名称： |
Guidelines for photomask defect classification and size definition |
 中标分类： |
电子元器件与信息技术>>电子工业生产设备>>L97加工专用设备 |
| ICS分类： |
电子学>>31.020电子元件综合 |
| 采标情况： |
SEMI P22-1993,IDT |
| 发布部门： |
国家技术监督局 |
| 发布日期： |
1997-06-20 |
| 实施日期： |
1998-03-01
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| 首发日期： |
1997-06-20 |
| 复审日期： |
2004-10-14 |
| 归口单位： |
全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
| 主管部门： |
国家标准化管理委员会 |
| 起草单位： |
中国科学院微电子中心 |
| 页数： |
平装16开， 页数：7， 字数：10千字 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 书号： |
155066.1-14347 |
| 出版日期： |
2004-08-10 |
| 标准前页： |
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