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离子注入机通用规范

国家标准
标准编号:GB/T 15862-2012 标准状态:现行
标准价格:31.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本标准规定了离子注入机的术语、产品分类、技术要求、试验、检验规则和标志、包装、运输、贮存。
本标准适用于半导体工艺用电能离子注入机。其他离子注入机亦可参照使用。
英文名称:  General specification of ion implantation equipment
什么是替代情况? 替代情况:  替代GB/T 15862-1995
什么是中标分类? 中标分类:  电子元器件与信息技术>>电子工业生产设备>>L97加工专用设备
什么是ICS分类?  ICS分类:  31-550
发布部门:  中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:  2012-11-05
实施日期:  2013-02-15
首发日期:  1995-12-22
提出单位:  中华人民共和国工业和信息化部
什么是归口单位? 归口单位:  中国电子技术标准化研究所
主管部门:  中国电子技术标准化研究所
起草单位:  中国电子科技集团公司第四十八研究所
起草人:  郭健辉、彭立波、罗宏洋
页数:  16页
出版社:  中国标准出版社
出版日期:  2013-02-15
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前言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准代替GB/T15862—1995《离子注入机通用技术条件》。
本标准与GB/T15862—1995相比主要变化如下:
———GBn193—1983由GB/T13384—1992代替;
———增加术语“注入角度”(见3.6)、“最大晶片传输效率”(见3.7),并在性能指标及测试方法中做相应要求(见6.4.6);
———环境温度调整为23℃±2℃;相对湿度规定范围30%~50%(见5.1.3);
———安全要求中增加“警示标识”的条款(见6.3.1);
———去掉表3、表4;
———均匀性测量增加了热波探针法测量条件和方法(见6.4.4.1b));
———重复性测量增加了批间重复性测量方法(见6.4.5.2);
———检验规则去掉例行检验项。
本标准由中华人民共和国工业和信息化部提出。
本标准由中国电子技术标准化研究所归口。
本标准起草单位:中国电子科技集团公司第四十八研究所。
本标准主要起草人:郭健辉、彭立波、罗宏洋。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
———GB/T15862—1995。
引用标准
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