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工业硅化学分析方法 第4部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定素含量

国家标准
标准编号:GB/T 14849.4-2008 标准状态:已作废
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标准简介
GB/T 14849《工业硅化学分析方法》分为四部分,本部分为第4部分。
本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。本部分也适用于以上其含量的测定。
英文名称:  Methods for chemical analysis of silicon metal - Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
标准状态:  已作废
什么是替代情况? 替代情况:  被GB/T 14849.4-2014代替
什么是中标分类? 中标分类:  冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法
什么是ICS分类?  ICS分类:  冶金>>有色金属>>77.120.10铝和铝合金
发布部门:  中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:  2008-06-09
实施日期:  2008-12-01
作废日期:  2015-08-01
首发日期:  2008-06-09
提出单位:  中国有色金属工业协会
什么是归口单位? 归口单位:  全国有色金属标准化技术委员会
主管部门:  中国有色金属工业协会
起草单位:  中国铝业股份有限公司郑州研究院、中国有色金属工业标准计量质量研究所等
起草人:  李跃平、石磊、张树朝、张洁、吴豫强、周兵等
计划单号:  20073440-T-610
页数:  8页
出版社:  中国标准出版社
书号:  155066·1-32554
出版日期:  2008-12-01
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