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硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法

国家标准
标准编号:GB/T 19444-2004 标准状态:现行
标准价格:24.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本标准规定了由测量硅片间隙氧含量的减少量来检验硅片氧沉淀特性的方法原理、取样规则、热处理程序、试验步骤、数据计算等内容。本标准用于定性比较两批或多批集成电路用硅片间隙氧沉淀特性。
英文名称:  Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction
什么是中标分类? 中标分类:  冶金>>金属理化性能试验方法>>H26金属无损检验方法
什么是ICS分类?  ICS分类:  电气工程>>绝缘流体>>29.040.01绝缘流体综合
什么是采标情况? 采标情况:  ASTM F1239-1994 IDT
发布部门:  中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:  2004-02-05
实施日期:  2004-07-01
首发日期:  2004-02-05
复审日期:  2004-10-14
提出单位:  中国有色金属工业协会
什么是归口单位? 归口单位:  全国半导体材料和设备标准化技术委员会
主管部门:  国家标准化管理委员会
起草单位:  洛阳单晶硅有限责任公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所
起草人:  蒋建国、屠妹英、贺东江、章云杰
页数:  16开, 页数:5, 字数:9千辽
出版社:  中国标准出版社
书号:  155066.1-20772
出版日期:  2004-07-01
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