|
| 英文名称： |
Determination of wavefront aberration in optical systems—Electro-optical Shack-Hartmann method |
| 标准状态： |
即将实施 |
 中标分类： |
电子元器件与信息技术>>光电子器件>>L50光电子器件组合 |
| ICS分类： |
计量学和测量、物理现象>>光学和光学测量>>17.180.99有关光学和光学测量的其他标准 |
| 发布部门： |
国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2024-07-24 |
| 实施日期： |
2025-02-01
即将实施 距离实施日期还有36天 |
| 提出单位： |
中国科学院 |
| 归口单位： |
全国光测量标准化技术委员会(SAC/TC 487) |
| 起草单位： |
中国科学院苏州生物医学工程技术研究所、中国科学院光电技术研究所、中国标准化研究院、中国科学院空天信息创新研究院、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、苏州慧利仪器有限责任公司、中国计量科学研究院、长春奥普光电技术股份有限公司、浙江舜宇光学有限公司等 |
| 起草人： |
史国华、邢利娜、何益、杨金生、蔡建奇、王璞、刘春雨、韩森、洪宝玉、冯长有、包明帝、叶虹、谢桂华、伍开军、沈晨雁、郝华东 |
| 页数： |
24页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |