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表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染

国家标准
标准编号:GB/T 40110-2021 标准状态:现行
标准价格:49.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。
本文件适用于以下情形:
——原子序数从16(S)到92(U)的元素;
——原子表面密度介于1×1010 atoms/cm2~1×1014 atoms/cm2之间的污染元素;
——采用VPD(气相分解)样品制备方法得到的原子表面密度介于5×108 atoms/cm2~5×1012 atoms/cm2之间的污染元素(见3.4)。
英文名称:  Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
什么是中标分类? 中标分类:  化工>>化工综合>>G04基础标准与通用方法
什么是ICS分类?  ICS分类:  化工技术>>分析化学>>71.040.40化学分析
发布部门:  国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
发布日期:  2021-05-21
实施日期:  2021-12-01
提出单位:  全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)
什么是归口单位? 归口单位:  全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)
起草单位:  中国计量科学研究院、华南理工大学
起草人:  王海、张艾蕊、王梅玲、任丹华、徐昕荣、范燕
页数:  28页
出版社:  中国标准出版社
出版日期:  2021-05-01
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