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| 英文名称： |
Silicon epitaxial wafers |
 替代情况： |
替代GB/T 14139-2009 |
| 中标分类： |
冶金>>半金属与半导体材料>>H82元素半导体材料 |
| ICS分类： |
电气工程>>29.045半导体材料 |
| 发布部门： |
国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2019-06-04 |
| 实施日期： |
2020-05-01
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| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 主管部门： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员 |
| 起草单位： |
浙江金瑞泓科技股份有限公司、南京国盛电子有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、有研半导体材料有限公司 |
| 起草人： |
张海英、李慎重、蒋玉龙、骆红、胡金枝、卢立延、李素青 |
| 页数： |
12页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
2019-06-01 |