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表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法

国家标准
标准编号:GB/T 32495-2016 标准状态:现行
标准价格:31.0 客户评分:星星星星1
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标准简介
本标准详细规定了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中砷进行深度剖析的方法,以及用触针式轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。本标准适用于砷原子浓度范围从1×10??16? atoms/cm?3~2.5×10??21? atoms/cm?3的单晶硅、多晶硅、非晶硅样品,坑深在50 nm及以上。
英文名称:  Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of arsenic in silicon
什么是中标分类? 中标分类:  化工>>化工综合>>G04基础标准与通用方法
什么是ICS分类?  ICS分类:  化工技术>>分析化学>>71.040.40化学分析
什么是采标情况? 采标情况:  ISO 12406:2010
发布部门:  中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:  2016-02-24
实施日期:  2017-01-01
复审日期:  2023-12-28
提出单位:  全国微束标准化技术委员会(SAC/TC 38)
什么是归口单位? 归口单位:  全国微束标准化技术委员会(SAC/TC 38)
起草单位:  中国电子科技集团公司第四十六研究所
起草人:  马农农、陈潇、何友琴、王东雪
出版社:  中国标准出版社
出版日期:  2017-01-01
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